EUV용 블랭크 마스크, 日 독점 생산…업계 '선두' 지위 유지될까
(서울=연합뉴스) 최재서 기자 = '인천공항 3배' 규모의 투자라며 삼성전자[005930]가 자신있게 내세웠던 첨단 극자외선(EUV) 기술공정이 일본 수출규제의 직격탄을 맞을 것이라는 우려가 커지고 있다.
이미 규제가 확정된 EUV용 포토리지스트(PR)는 일본 외에 대체 가능한 업체가 없고, 추가 규제 가능성이 제기된 블랭크 마스크 또한 EUV용 제품을 일본 업체가 독점하고 있기 때문이다.
11일 업계에 따르면 일본이 추가로 규제할 가능성이 높은 반도체 관련 품목은 집적회로(IC), 전력반도체(PMIC), 리소그래피 장비, 이온주입기, 웨이퍼, 블랭크 마스크 등이다.
모두 일본 수출 규제의 주요 근거로 작용하고 있는 '수출무역관리령'의 통제대상품목(1∼15항)에 포함된 제품들이다.
이중 웨이퍼와 블랭크 마스크는 일본 업체의 시장 점유율이 매우 높은 것으로 알려져 있다.
특히 블랭크(blank) 마스크는 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 원재료로, 반도체 공정이 미세화하며 그 중요성이 더욱 커지고 있다.
삼성전자가 주력하고 있는 EUV 기술 또한 미세한 공정에 적합한 차세대 기술로 국내에서 생산하는 블랭크 마스크로는 일본의 첨단 제품을 대체할 수 없다는 게 업계 분석이다.
NH투자증권[005940] 도현우 연구원은 "EUV용 블랭크 마스크는 일본 호야가 독점 생산 중"이라며 "국내 에스앤에스텍[101490] 등의 블랭크 마스크는 글로벌 업체 대비 기술력이 다소 부족하다"고 설명했다.
포토리지스트의 경우도 공정 중 종류별로 여러 층이 도포되는데, 핵심층에 사용되는 제품은 기술적으로 앞서있는 일본 제품으로 알려져 있다.
EUV용 포토리지스트는 일본의 JSR, 신에츠 등이 공급하고 있으며 국내 동진쎄미켐[005290] 등은 아직 EUV용을 개발 중이다.
다만 도현우 연구원은 이에 대해 "리지스트는 EUV용만 규제 대상인데 EUV는 아직 양산에 대규모로 사용되고 있지 않다"고 언급한 바 있다.
앞서 삼성전자는 '반도체 비전 2030'을 선포하며 시스템 반도체 강화의 일환으로 EUV 라인의 생산 확대를 발표한 바 있으며 이미 7나노 EUV 양산에 성공, 현재는 소규모 시범 생산라인을 가동하고 있다.
소재 공급이 끊기더라도 당장은 시범 생산라인에만 영향을 미친다는 뜻이지만, 문제는 내년 1월 본격 가동될 예정인 화성의 EUV 전용 생산라인이다.
지난 4월 문재인 대통령이 찾은 EUV 건설현장에서 이재용 삼성전자 부회장은 "이거 짓는 돈이 인천공항 3개 짓는 비용"이라며 투자 규모를 강조한 바 있다.
업계 관계자는 "삼성전자의 핵심성장산업 중 하나가 시스템 반도체고, 이를 이끄는 기술이 EUV"라며 "사태가 장기화해 문제가 생기면 대한민국 반도체의 미래가 멈추는 것"이라고 말했다.
또한 EUV 기술은 삼성전자 외에 중국 TSMC, 미국 인텔도 바짝 뒤쫓는 중이어서 상황이 악화할 경우 업계 '선두' 자리를 경쟁업체에 내주는 것 아니냐는 우려도 나온다.
이밖에 SK하이닉스[000660]는 2021년 이후 EUV 도입을 검토하고 있는 것으로 알려졌다.
일본이 수출 규제 품목을 추가로 지정할 경우 기존 3가지 품목과 마찬가지로 개별허가를 거쳐야 해 통상 90일 정도의 심사 기간이 소요된다.
한편 이재용 부회장은 지난 7일 일본으로 출국해 재계 고위 관계자와 만나 수출규제와 관련한 의견을 나눈 것으로 알려졌다.
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